Page 64 - Telebrasil - Março/Abril 1983

DO SILÍCIO AO INTEGRADO e recursos hum anos para estes pro­

cessos.

A - OBTENÇÃO DO MONOCRISTALINO Além dos processos planar e epita*

xial clássicos que operam no cristal

m in é rio ---------------- ? silício m etalúrgico (95%)
como um todo estão sendo desenvolvidos

purificação----------------? tricloro silano e eletrólise
processos especiais como o da implanta­
policristalino (99% )-----------------? fusáo zonal
ção iônica (40 keV, mas passando a 340
m onocristalino (99,99% de pureza)
keV), limpeza com uso de plasma e epi-

Fig. 6.1 — Os processos de purificação e de fusão zonal desenvolvidos na Unicamp permitem taxia induzida por leiser. Este último

obter silício, ouro e alumínio de alto grau de pureza. processo permite trabalhar em peque­

nas áreas e criar estruturas localizadas,

com o por exem plo regiões P e N no

mesmo nível de um substrato. A epita-

xia por leiser elimina os processos foto­

gráficos e de oxidação, permite criar ca­

madas monocristalinas em substratos

amorfos como o quartzo e faculta a auto­

B - OBTENÇÃO DAS MÁSCARAS mação do processo de obtenção de semi­

condutores usando espelhos e micropro­

Idealizar circuito: Via software, empregando PA C (projeto auxiliado por computador).
cessadores.

Toda pesquisa é documentada atra­
Dimensionar geometria: Via LPG (linguagem de procedimento gráfico); processa figuras

(área, componentes, ligações) geométricas planas no vídeo. vés do sistema Codex e das Instruções

para a Execução de Processo que sáo

Confeccionar máscara: GAM - gerador automático de máscaras; controla mesa coordena- verdadeiras "receitas de bolo”, permi­

(uma máscara - 50x50 cm - para cada dora gráfica; grava película de rubylith; pode gravar 1x1 mm com tindo duplicar os experimentos já efe­

etapa) precissão de 10 pm. tuados.

O estande do LED, organizado pelos
1.° nível de reduçào: Foto redução entre 20 a 25 vezes; placa fotográfica alta resolução alunos graduados, Taveira, Behreus e

2500 linhas/mm.

Foto repetidora: Traz a máscara para tamanho final; opera com geometrias de até 8 Leão, deu uma mostra didática de como

pm. se fabricar os semicondutores.

Outro laboratório da Unicamp é o de

Fig. 6.2 — Os laboratórios da Unicamp desenvolvem software e máquinas para obtenção de pesquisa em dispositivos — LPD, que

máscaras. O tamanho da maior linha está em torno de 5 pm, tendendo para 2.5 pm, mas no integra o Dept.0 de Física Aplicada do

exterior já se utilizam dimensões de 1 pm. Instituto de Física. Criado em 71 e coor­

denado por José E. Ripper Filho tem um

corpo de cerca de 40 pesquisadores, alu­

nos de mestrado e doutorado; o labora­

tório dá mais ênfase ao estudo dos pro­

cessos físicos em dispositivos semicon­

dutores de fibras ópticas.

C -IOBTENÇÃO DA PASTILHA GRAVADA A partir de 73 o LPD passou a receber

apoio da T elebrás num programa a

Sensibilizar o silício com ultravioletas: Depositar resina foto sensível na lâmina de silício; resina possui longo prazo de desenvolvimento para a

dois tipos: positivo e negativo. fabricação de fibras, cujo processo de fa­

bricação foi posteriormente transferido

Empilhar silício, resina e máscara utilizando uma foto alinhadora para o CPqD, passando o laboratório a

se dedicar ao estudo das propriedades
Oxidar o silício ou difundir impurezas: Forno de alta temperatura; controlar temperatura 1000.° ± 0.2.°C;

controlar tempo com precisão; controlar espessura das camadas de das fibras inclusive as denominadas

óxido por calorimetria ± 50 A°; difusão de boro P ± , fósforo N monomodo e de núcleo líquido.

O laboratório já possui mais de 13 pa­

Limpeza: Química; dependendo da máscara conserva ou retira material. tentes registradas intemacionalmente.

disse Francisco Mecchi Neto, como é o

Repetição: Repete-se "n " vezes o processo para cada máscara. caso do leiser de janela transversal

utilizando estrutura PN-PN.
Fig. 6.3 — Os laboratórios da Unicamp desenvolveram "know-how” que permite garantir a Outro centro de atração do estande

continuidade da pesquisa.
da Unicamp foi a demonstração de um

leiser gasoso de CO2, com 30 watts de po­

tência, desenvolvido com recursos do Fi-

pec. Segundo Jorge Humberto Wiola.

este leiser tem aplicação para uso cirúr­

gico e já foi utilizado com sucesso em

operações de otorrinolaringologia da

D- - OBTENÇÃO DA CÁPSULA Santa Casa. O dispositivo permite cau

terizar vasos de menos de meio milíme­

Interligar transistores e form ar contatos A brir janelas para contatos; depositar alumínio por metalização a tro com alta precisão e assepsia, cau­

externos: vácuo, usando processo de máscara, etc... sando um mínimo de lesões ao paciente

O leiser de CO2, disse Wiola, opera con

Teste: Sistema de medição com microscópio e "ponteiras" especiais. 10.6 p (infravermelho) e tem seu raio re­

fletido pelos metais, mas pode ser ate­

Encapsulam ento: Corte da pastilha; solda da lâmina no soquete; solda dos contatos nuado utilizando cristais de cloreto àe

por ultra-som; encapsulamento.
sódio (sal de cozinha).

Noutra parte do estande encontr ¦
Fig. 6.4 — A interligação e a metalização ainda são baseadas em processo importado, mas o

teste já é desenvolvimento brasileiro. va-se em demonstração, por Álvaro

. Mofço'Aty -