Page 38 - Telebrasil - Julho/Agosto 1976
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COMPONENTES  MODERNOS
                                                                                                                                         lização  da  junção  P+/N  permite  au­                                                                                      A camada N tem 0,2 na 0,4  j jde espes­



                                                                                                                                         mentar o  MTFR  com  pequeno  sacrifí­                                                                                       sura e concentração da ordem de  10^




            4) Ataque químico através de máscara                                                                                         cio  do  rendimento.                                                                                                         cm‘3.


                    a  partir  do  lado  N+  para  formar  as



                    "mesas".                                                                                                             Transistor a feito de  campo                                                                                                 O gate é uma  barreira  Schottky metal-



           5) Montagem,  encapsulamento.                                                                                                 a  barreira  metal-semicondutor                                                                                              semicondutor.  Para  realizar  gates  de


                                                                                                                                         em  GaAs                                                                                                                     até  0,8  ij pode-se  utilizar  a  seqüência



            A  barreira  Schottky  Pt  —  GaAs  pode                                                                                                                                                                                                                  (fig.  5):



            ser substituída  por  uma  junção  P+/N,                                                                                     0  material  de  base  é  uma  camada



            sendo a camada  P+  (dopada  com  Ge)                                                                                        epitaxial  do  tipo  N  sobre  substrato                                                                                     1)  Realizam-se                                    mesas"  por  ataque


            também  realizada  por  epitaxia.  A  uti­                                                                                   semi-isolante  (fig.  5).                                                                                                           químico  seletivo  da  capa  N.


                                                                                                                                                                                                                                                                     2)  Evapora-se  A1  sobre  a  superfície.



                                                                                                                                                                                                                                                                     3)  Realizam-se  os  "gates"  por  foto-



                                                                                                                                                                                                                                                                             litografia.


                                                                                                                                                                                                                                                                     4)  Evapora-se  Au-Ge  sobre  toda  a



                                                                                                                                                                                                                                                                             superfície  (os  "gates"  ficam  pro­



                                                                                                                                                                                                                                                                             tegidos  pelo  foto-resist).


                                                                                                                                                                                                                                                                    5)  Se  realizam  os  contatos  ôhmicos



                                                                                                                                                                                                                                                                             por  liga  a  480°C.


                                                                                                                                                                                                                                                                     6)  Montagem/encapsulamento.








                                                                                                                                                                                                                                                                     Com esta técnica conseguem-se gates


                                                                                                                                                                                                                                                                     de 0,8 a 1 Jj em canais de 2,4 a 3j\.  Para



                                                                                                                                                                                                                                                                     realizar gates mais finos (0,5 jjem canal



                                                                                                                                                                                                                                                                     de  1,5 ij)  deve-se  utilizar  litografia  por


                                                                                                                                                                                                                                                                     feixe eletrônico.







                                                                                                                                                                                                                                                                     III.  Propriedades destes



                                                                                                                                                                                                                                                                     componentes







                                                                                                                                                                                                                                                                    Tanto o diodo Gunn  como  o  IMPATT



                                                                                                                                                                                                                                                                    apresentam,  sob  certas  condições  de


                                                                                                                                                                                                                                                                    polarização,  impedâncias  com  parte



                                                                                                                                                                                                                                                                     real negativa em microondas,  (fig.  6 e



                                                                                                                                                                                                                                                                    7) .







                                                                                                                                                                                                                                                                    A origem física desta propriedade é, no


                                                                                                                                                                                                                                                                    caso  do  diodo  Gunn,  a  mobilidade



                                                                                                                                                                                                                                                                    diferencial negativa que aparece a par­


                                                                                                                                                                                                                                                                    tir  de  uma  tensão  crítica^).  Para  o



                                                                                                                                                                                                                                                                    diodo a avalanche (IMPATT) é o efeito



                                                                                                                                                                                                                                                                    de avalanche e tempo  de  trânsito  que


                                                                                                                                                                                                                                                                    introduz  uma  defasagem  de  aproxi­



                                                                                                                                                                                                                                                                    madamente  180°  entre corrente e ten-


                                                                                                                                                                                                                                                                    são(3).







                                                                                                                                                                                                                                                                    Não  nos  deteremos  com  a  física  dos



                                                                                                                                                                                                                                                                    fenômenos  em jogo,  o  que  fugiria  de


                                                                                                                                                                                                                                                                    nossos  objetivos.








                                                                                                                                                                                                                                                                    A propriedade de impedância negativa


                                                                                                                                                                                                                                                                    é utilizada  para  realizar amplificadores



                                                                                                                                                                                                                                                                    e  osciladores.












                                                                                                                                                                                                                                                                    111.1 Osciladores^)







                                                                                                                                                                                                                                                                    A condição a ser cumprida  para obter-



                                                                                                                                                                                                                                                                    se  oscilação  é,  idealmente,








                                                                                                                                                                                                                                                                                  Zc(ío)  +  Zó(cü .  A)  =  0                                               (1)









                                                                                                                                                                                                                                                                    em que Zd é a impedância  do  diodo  e


                                                                                                                                                                                                                                                                    Zc  é  a  impedância  apresentada  ao



                                                                                                                                                                                                                                                                     mesmo  pelo  circuito.
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